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dc.creatorSosa, D.A.
dc.creatorCollado Ciprés, Verónica
dc.creatorGarcía, José Luis
dc.creatorDalibón Bähler, Eugenia Laura
dc.creatorEscalada, Lisandro
dc.creatorRoa, Joan Josep
dc.creatorSoldera, Flavio
dc.creatorBrühl, Sonia Patricia
dc.creatorLlanes, L.
dc.creatorSimison, Silvia
dc.date.accessioned2020-12-02T20:27:29Z
dc.date.available2020-12-02T20:27:29Z
dc.date.issued2020-11-07
dc.identifier.issn0167-577X
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.12272/4624
dc.description.abstractThe response to cycling contact fatigue load of a WC-6%Co carbide coated with a Ti(C,N)/α-Al2O3 CVD multilayer was investigated in dry and wet conditions. Imprints in dry conditions were characterized by small thin cracksformingacircumferenceatthemaximumradiioftheimprint.Thedamagedcoatingwastotallypresentin thefinalimprintofthedrytest.Wetindentationsshowcaseanareaintheimprintwherethe α-Al2O3 layerhas beenremovedthroughoutaringbutwaskeptatthecenteroftheindentation,suggestingthatthecoatingdamageundercyclingcontactloadinwetconditionsisdominatedbyα-Al2O3degradation,associatedwithafretting effectortangentialloadsacceleratingthefatigue-corrosionofthealuminalayer.es_ES
dc.formatapplication/pdfes_ES
dc.language.isoenges_ES
dc.language.isoenges_ES
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccesses_ES
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/*
dc.rights.uriAttribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional*
dc.sourceMaterials Letters (2020)es_ES
dc.subjectCVD coatinges_ES
dc.subjectCemented carbidees_ES
dc.subjectContact fatiguees_ES
dc.subjectCrack propagationes_ES
dc.subjectWeares_ES
dc.titleContact fatigue behavior of α-Al PROOF 2 O -Ti(C,N) CVD coated WC-Co under dry and wet conditionses_ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articlees_ES
dc.rights.holderSosa, D.A. ; Collado Ciprés, Verónica ; García, José Luis ; Dalibón Bähler, Eugenia Laura ; Escalada, Lisandro ; Roa, Joan Josep ; Soldera, F. ; Brühl, Sonia Patricia ; Llanes L. ; Simison, Silviaes_ES
dc.description.affiliationFil: Collado Ciprés, Verónica. AB Sandvik Coromant R&D,Stockholm; Sweden.es_ES
dc.description.affiliationFil: García, José Luis. AB Sandvik Coromant R&D,Stockholm; Sweden.es_ES
dc.description.affiliationFil: Dalibón Bähler, Eugenia Laura. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Concepción del Uruguay. Departamento Ingeniería Electromecánica. Grupo de Ingeniería de Superficies; Argentina.es_ES
dc.description.affiliationFil: Escalada, Lisandro. Universidad Nacional de Mar del Plata-Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones en Ciencia y Tecnología de Materiales; Argentina.es_ES
dc.description.affiliationFil: Sosa, D.A. Universidad Nacional de Mar del Plata-Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones en Ciencia y Tecnología de Materiales; Argentina.es_ES
dc.description.affiliationFil: Soldera, Flavio. Functional Materials,Department of Materials Science,Saarland University,Saarbrücken; Germany.es_ES
dc.description.affiliationFil: Brühl, Sonia Patricia. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Concepción del Uruguay. Departamento Ingeniería Electromecánica. Grupo de Ingeniería de Superficies; Argentina.es_ES
dc.description.affiliationFil: Llanes L. BarcelonaTech,EEBE&Barcelona Research Centerin Multiscale Science and Engineering,Universitat Politècnica de Catalunya-BarcelonaTech; Spain.es_ES
dc.description.affiliationFil: Roa, Joan Josep. BarcelonaTech,EEBE&Barcelona Research Centerin Multiscale Science and Engineering,Universitat Politècnica de Catalunya-BarcelonaTech; Spain.es_ES
dc.description.affiliationFil: Simison, Silvia. Universidad Nacional de Mar del Plata-Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas. Instituto de Investigaciones en Ciencia y Tecnología de Materiales; Argentina.es_ES
dc.description.affiliationFil: Llanes, L. Universitat Politécnica de Catalunya. Centro de Integridad Estructural y Fiabilidad de los Materiales; España.
dc.description.peerreviewedPeer Reviewedes_ES
dc.type.versionacceptedVersiones_ES
dc.rights.useNo comercial con fines académicoses_ES


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