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dc.creatorNúñez García, Javier Luis Mariano
dc.creatorHeredia, Eduardo Armando
dc.creatorGilabert, Ulises Eduardo
dc.date.accessioned2024-07-12T20:28:33Z
dc.date.available2024-07-12T20:28:33Z
dc.date.issued2023
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.12272/11127
dc.description.abstractEl efecto Hall surge como resultado de la interacción entre corrientes eléctricas y campos magnéticos que atraviesan la muestra, un fenómeno que permite caracterizar las propiedades eléctricas fundamentales de los materiales conductores y especialmente semiconductores. Dicha interacción resulta en la generación de un campo eléctrico perpendicular que da origen a un voltaje transversal. Mediante este efecto se efectúa la identificación del tipo de semiconductor, en tipo n o p. Además, permite la determinación del número de portadores de carga en el material. Midiéndose la resistividad (ρ), es posible calcular la movilidad (µ) y la densidad de los portadores de carga. La medición de la resistividad juega un papel fundamental en la industria de fabricación de semiconductores y dispositivos electrónicos, es esencial para verificar la calidad y uniformidad de los materiales utilizados. Mantener una resistividad uniforme es crítico para asegurar un rendimiento coherente de los dispositivos. Además, la resistividad está interconectada con otras propiedades materiales tales como la conductividad eléctrica, la movilidad de los portadores de carga y la densidad de portadores. Mediante el uso de un equipo construido íntegramente en nuestro laboratorio, se realizaron mediciones Hall de muestras de HgxCd1-xTe crecidas sobre un sustrato de CdTe. Dichos crecimientos se realizaron por medio de un horno VPE (Vapor Phase Epitaxy).es_ES
dc.description.sponsorshipConvocatoria Viajes y Eventos FRBA año 2023es_ES
dc.description.sponsorshipUTN FRBA, UNIDEF - MINDEF - CONICET - CITEDEFes_ES
dc.formatpdfes_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.rightsopenAccesses_ES
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/*
dc.rights.uriAtribución-NoComercial 4.0 Internacional*
dc.subjectHgCdTees_ES
dc.subjectEfecto Halles_ES
dc.subjectMicroscopía ópticaes_ES
dc.subjectMicroscopía electrónica de barridoes_ES
dc.titleMediciones Hall en epitaxias de Hg Cd Te (MCT) crecidas sobre sustratos de CdTees_ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/workingPaperes_ES
dc.rights.holderNúñez García Javier Luis Mariano, Heredia Eduardo Armando, Gilabert Ulises Eduardoes_ES
dc.description.affiliationNúñez García, Javier Luis Mariano. UNIDEF. MINDEF. CONICET. DEMAPE. Argentinaes_ES
dc.description.affiliationNúñez García, Javier Luis Mariano. Centro de Tecnologías Químicas (CTQ). Departamento de Ingeniería Química. UTN. FRBA. Argentinaes_ES
dc.description.affiliationHeredia, Eduardo Armando. UNIDEF. MINDEF. CONICET. DEMAPE. Argentina.es_ES
dc.description.affiliationGilabert, Ulises Eduardo. Centro de Tecnologías Químicas (CTQ). Departamento de Ingeniería Química. UTN. FRBA. Argentinaes_ES
dc.description.peerreviewedPeer Reviewedes_ES
dc.relation.projectidDenominación del PID: DESARROLLO DE DISPOSITIVOS PARA DETECCIÓN DE RADIACIÓN INFRARROJA A PARTIR DE SEMICONDUCTORES II-VI Código del Proyecto: MATCBA0008790TCes_ES
dc.type.versionacceptedVersiones_ES
dc.rights.useAtribución (“Creative Commons Attribution”): En cualquier explotación de la obra autorizada por la licencia será necesario reconocer la autoría (obligatoria en todos los casos).es_ES


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