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dc.creatorMoreira, Ramiro Damián
dc.creatorOliva-Ramírez, Manuel
dc.creatorWang, Hongmei
dc.creatorSchaaf, Peter
dc.date.accessioned2021-01-18T19:33:17Z
dc.date.available2021-01-18T19:33:17Z
dc.date.issued2019-09-06
dc.identifier.citationVII Encuentro de Jóvenes Investigadores en Ciencia y Tecnología de los Materiales. Rosario (2019).es_ES
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.12272/4720
dc.description.abstractEn este trabajo, se fabricaron capas finas esculturales de ITO en configuración de ángulo oblicuo mediante RF magnetron sputtering con dos composiciones de plasma distintas, argón y oxígeno, y solo argón. Las mismas presentaron alta transparencia en el espectro visible, una porosidad considerable y baja resistividad eléctrica. Se seleccionó un ángulo de deposición y se fabricaron capas en estructura chevron para su uso como electrodos electroquímicos. Al evaluar la actividad electrocatalítica, estas capas porosas mostraron mejor actividad en comparación con capas compactas, y a su vez las capa crecidas con argón y oxigeno superaron a las crecidas en sólo argón.es_ES
dc.formatapplication/pdfes_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccesses_ES
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/*
dc.rights.uriAttribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional*
dc.subjectPlasmaes_ES
dc.subjectDeposición electro-catalíticaes_ES
dc.subjectITOes_ES
dc.titleDeposición, caracterización y actividad electro-catalítica de capas delgadas de ITO fabricadas a ángulo oblicuo por RF magnetron sputteringes_ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferenceObjectes_ES
dc.rights.holderMoreira, Ramiro Damián ; Oliva-Ramírez, Manuel ; Huang, Hai ; Schaaf, Peteres_ES
dc.description.affiliationFil: Moreira, Ramiro Damián. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Concepción del Uruguay. Departamento Ingeniería Electromecánica. Grupo de Ingeniería de Superficies; Argentina.es_ES
dc.description.affiliationFil: Oliva-Ramírez, Manuel. Universidad Técnica de Ilmenau. Facultad de Ingeniería Eléctrica y Tecnologías de la Información. Instituto de Ingeniería de Materiales; Alemania.es_ES
dc.description.affiliationFil: Wang, Hongmei . Universidad Técnica de Ilmenau. Facultad de Ingeniería Eléctrica y Tecnologías de la Información. Instituto de Ingeniería de Materiales; Alemania.es_ES
dc.description.affiliationFil: Scaaf, Peter. Universidad Técnica de Ilmenau. Facultad de Ingeniería Eléctrica y Tecnologías de la Información. Instituto de Ingeniería de Materiales; Alemania.es_ES
dc.type.versionacceptedVersiones_ES
dc.rights.useNo comercial con fines académicos.es_ES


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