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dc.creatorRiehme, Carlos Damián
dc.date.accessioned2021-01-22T14:38:36Z
dc.date.available2021-01-22T14:38:36Z
dc.date.issued2018-09-13
dc.identifier.citationVIII Jornadas de Ciencia y Tecnología-CyTAL. Córdoba. (2018).es_ES
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/20.500.12272/4751
dc.description.abstractEn este trabajo se comparó la adhesión y el desgaste de películas delgadas de TiN con interfase de Ti obtenidas por arco catódico combinado con implantación iónica (PBII&D), y de un recubrimiento PVD TiN comercial, ambos depositados sobre acero inoxidable 316L previamente nitrurado. Las películas se caracterizaron por microscopía electrónica. Se realizaron ensayos Scratch Test e Indentación Rockwell C para probar la adhesión de los recubrimientos a la superficie nitrurada y ensayos de pin-on-disk a fin de evaluar y comparar los coeficientes de fricción y la resistencia al desgaste de las películas de los distintos procesos. En las imágenes FIB-SEM se observa que los recubrimientos por PBII&D presentaron mayor espesor que los TiN comerciales, los ensayos de pin-on-disk, scratch test e indentación RC mostraron mejores resultados para los films bicapa. La intercapa de Ti y el proceso PBII&D mejoraron la adhesión y resistencia al desgaste de los PVD TiN comerciales.es_ES
dc.formatapplication/pdfes_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccesses_ES
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/*
dc.rights.uriAttribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional*
dc.subjectRecubrimientos PVDes_ES
dc.subjectAISI 316Les_ES
dc.titleAdhesión y desgaste de un recubrimiento PVD de TiN depositado sobre AISI 316L nitruradoes_ES
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferenceObjectes_ES
dc.rights.holderRiehme, Carlos Damiánes_ES
dc.description.affiliationFil: Riehme, Carlos Damián. Universidad Tecnológica Nacional. Facultad Regional Concepción del Uruguay. Departamento Ingeniería Electromecánica. Grupo de Ingeniería de Superficies; Argentina.es_ES
dc.type.versionacceptedVersiones_ES
dc.rights.useNo comercial con fines académicos.es_ES


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