Deposición, caracterización y actividad electro-catalítica de capas delgadas de ITO fabricadas a ángulo oblicuo por RF magnetron sputtering

Abstract

En este trabajo, se fabricaron capas finas esculturales de ITO en configuración de ángulo oblicuo mediante RF magnetron sputtering con dos composiciones de plasma distintas, argón y oxígeno, y solo argón. Las mismas presentaron alta transparencia en el espectro visible, una porosidad considerable y baja resistividad eléctrica. Se seleccionó un ángulo de deposición y se fabricaron capas en estructura chevron para su uso como electrodos electroquímicos. Al evaluar la actividad electrocatalítica, estas capas porosas mostraron mejor actividad en comparación con capas compactas, y a su vez las capa crecidas con argón y oxigeno superaron a las crecidas en sólo argón.